首臺國產商業化電子束光刻機誕生，量子芯片研發從此有了“中國刻刀”
標志著中國高端半導體裝備產業邁入新階段。
先進封裝市場正以20%的復合增長率高速擴張。
新款光刻機，突破先進封裝技術！明年上市
30億元/臺！全球首臺頂級光刻機出貨 支持后2nm工藝：中國廠商不可能買到
你可能不知道什么是投影式曝光機，但說到光刻機——這個被稱作"半導體工業皇冠上的明珠"的設備，想必都不陌生。這一系列動作背后，是資金在半導體產業鏈上的精準布局。重要的是學會用數據說話——畢竟在資本市場里，"錢往…...
《AI法案》是一套旨在防止該技術被嚴重濫用的監管措施。
傅恪禮稱，中國已經開始研發一些國產光刻設備，盡管中國在趕超ASML的技術方面還有很長的路要走，但“你試圖阻止的人會更加努力地取得成功。” 在國產光刻機真正完成替代之前，我們依然需要使用ASML的DUV光刻機。…
畢竟EUV光刻機是制造7nm以下芯片必備機器，所以全球的頂尖芯片廠，都要搶ASML的EUV光刻機，看它的臉色行事，它卡著全球芯片廠商的脖子啊。二是研發出來，也因為成本太高，芯片廠商們不愿意買，賣不掉啊。 A…
而數值孔徑越大，自然通過的光線就越多了，早期的EUV光刻機，其數值孔徑是NA=0.33，但即使是這樣的光刻機，其價格也是高達1億多美元。 但對于ASML而言，不可能一直生產這種NA=0.33的光刻機吧，畢竟…
而EUV又用于7nm以下的芯片制造，所以說ASML卡住了全球所有先進芯片制造企業的脖子。還有美國之前搞了EBL電子束技術，據稱也能夠用于5nm及以下芯片的制造。 這種產品，據稱可以制造下一代半導體芯片，并…
這個中間又有損耗，所以最終它的實際轉換效率，低到只有0.02%左右。這意味著如果以后的EUV光刻機，采用這種技術，其耗電量，可能會大大降低，這一定是所有芯片制造企業的福音。 當然，一項技術從提到到最終實際…
所以一直以來，中國也在努力的進行突破，希望早日能夠研發出屬于自己的EUV光刻機，那么禁令什么的就成廢紙了。 不過針對中國在EUV光源上的進步，ASML的CEO克里斯托夫·富凱則稱，中國也許能制造出一些EUV…
第二個原因，當然是因為我們這些年，一直在努力的發展芯片產業，而光刻機是芯片制造中必不可少的設備之一，既然中國需要那么多，同時技術又跟不上，就只能從ASML去購買了。 比如去年我們就曝光了一臺氟化氬的光刻機，…
EUV光刻機的技術，其實是美國最早研發出來的，但美國研發出原型之后，將一整套理論和技術，交給了ASML，讓ASML來研發。 可見，要制造出EUV光刻機，可不是簡單的某一點突破就行，需要全方面的突破，而我們目…
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