大家都清楚，EUV光刻機是當前最先進的光刻機技術，可以用于7nm及以下芯片的制造，采用13.5nm波長的極紫外線，售價幾億美元一臺。

而這樣的EUV光刻機，目前也只有荷蘭的ASML一家能夠制造，像日本的Cana、Nikon，以及中國的上海微電子，都無法制造。

所以這就導致我們制造7nm及以下工藝時候時，被光刻機卡了脖子了。

那么問題就來了，為何EUV光刻機，只有ASML一家能夠制造出來，而我們研發(fā)不出來呢？原因到底出在哪里？

其實仔細分析起來，有三個方面的原因。

一、起步晚10年，中間又停了10多年研發(fā)。

不說EUV，就說最開始的光刻機發(fā)展，從步進式開始，中國就落后美國十年以來，后來有一段時間，中國更是涌現了了“造不如買”的思源，導致國產光刻機的研發(fā)，又停步了十多年。

而光刻機技術是一代一代積累的，從干式到浸潤式，再到EUV，一步一臺階，就像修高樓一樣，是先打地基，再從第一層，慢慢的修到第100層。

如果你前面的地基都沒有打好，就想直接修50層，修100層，這現實么？所以還得從地基打起，慢慢修上去，前面的課缺了，就得補。

二、技術封鎖

EUV光刻機的技術，其實是美國最早研發(fā)出來的，但美國研發(fā)出原型之后，將一整套理論和技術，交給了ASML，讓ASML來研發(fā)。

美國看來，造光刻機是苦活累活，讓ASML干得了，自己就用現成的，反正ASML也是自己控制的，美國還讓英特爾、臺積電、三星等投資ASML，做強做大EUV市場。

而ASML，拿到技術后，拿到資金后，申請了眾多的專利，還壟斷了元件供應市場，與一些供應鏈簽訂獨家協(xié)議，將核心技術、核心元件，控制在自己手中。

而一臺EUV光刻機，牽涉到幾十萬零件，幾千家供應鏈，有些供應鏈甚至全球僅此一家，一旦被ASML綁定了，其它企業(yè)就無法合作了。

你可能說會自己重建一套唄？但是想要自己全部重建一套供應鏈，這是不現實的，因為市場就這么大，就夠一家企業(yè)吃飽，重建供應鏈的后果，是供應鏈根本就吃不飽，活不下來，誰愿意干這么事？所以供應鏈也是關鍵之一。

三、和生態(tài)息息相關

光刻機是用來制造芯片的，光刻機的調整改進，必須要進入車間，與晶圓廠一起試驗研究。

而目前我們的芯片制造技術什么樣了？大家都懂的吧，ASML與英特爾、臺積電、三星等都是合作關系，生態(tài)都是相輔相成的。

而我們呢，就算制造出來了，也沒有一個合適的測試廠，所以這也是原因之一。

可見，要制造出EUV光刻機，可不是簡單的某一點突破就行，需要全方面的突破，而我們目前的水平，還在干式光刻機階段，之后還有浸潤式光刻機，再到EUV光刻機，代差還有好幾代，路還有點長，要有一點耐心，這東西的突破，真不是一朝一夕的事。