ASML遭炮轟：DUV光刻機也不能賣給中國！可能涉軍
為美國監視中國？光刻巨頭辟謠
這款創新性的激光源能夠發射出與當前主流DUV曝光技術波長相同的193納米相干光，為半導體工藝提升至3納米節點提供了有力支持。 經過精確測量，該固態DUV激光源的平均功率達到了70毫瓦，頻率為6千赫茲，線寬低于…
不過，近日，有好消息傳出，那就是中國科學院（CAS）的研究人員成功研發突破性的固態深紫外（DUV）激光，光源波長是193nm，和ASML、佳能、尼康的方式不一樣。 不過，目前這個技術，更多的還是在實驗室，要…
論文介紹稱，深紫外相干光，尤其是 193 nm 波長的光，已成為半導體光刻不可或缺的部分。研究人員提出了一種緊湊型固態納秒脈沖激光系統，能夠在6 kHz 的重復頻率下產生 193 nm 相干光。 …
在設備銷售方面，ASML全年共售出418臺光刻機，其中包括44臺極紫外（EUV）光刻機和374臺深紫外（DUV）光刻機。 從收入來源看，中國大陸成為ASML最大的市場，2024年貢獻了101.95億歐元的收…
而這也是美國，為什么不準ASML銷售EUV光刻機給我們的原因，美國擔心我們擁有這種光刻機之后，能夠制造出先進的芯片來。 所以理論上2nm芯片，也能夠使用DUV光刻機來制造，只是這種SASP方案，需要在SAD…
從上面的技術演進圖其實也可以看到，ArF最高能夠支持到65nm工藝，而這臺國產光刻機，分辨率就是65nm，很明顯就是貼近極限值的。 所以這臺國產65nm的光刻機，其實已經是干式DUV的極限了，也是ArFi（…
因為光線的波長小，分辨率就高了，所以浸潤式光刻機，可以用于最小7nm工藝的芯片，這是干式DUV辦不到的。其實它就是一臺干式DUV光刻機，所以能生產多少納米的芯片，我也不多說了，懂的都懂。 基于此，很多人表…
之前美國一直不準ASML銷售EUV光刻機給我們，后來又更改禁令，連浸潤式DUV光刻機，也就是ArFi也不允許隨便賣給中國了。 事實上，大家真不用擔心，早在2年前，我們就已經預料到了這一天，這兩年以來，中國一…
這臺光刻機是ArF技術，套刻也就是層與層之間的分辨率為8nm，每一層的精度為65nm，性能比較接近的是——阿斯麥2005年發布的ArF-Dry系列65nm的光刻機1460K，套刻精度為3.5和5.0nm，比…
9 月 15 日消息，工業和信息化部于 9 月 9 日印發《首臺（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024 年版）》通知，在文件列表包含國產氟化氪光刻機（110nm），和氟化氬光刻機（65nm）的…
后來，美國又出臺新的禁令，那就是個別中國先進芯片制造晶圓廠將無法獲得發運NXT:1970i 和 NXT:1980i浸沒式DUV設備的許可證，這個許可證也是美國發的。 意思就是，接下來像TWINSCAN N…
二是看到中國芯進步很快，明顯已經超過了美國的預期，所以美國不敢再讓ASML出口1970i和1980i了，之前的芯片已經是例子了。 美國的意圖很明顯，那就是徹底阻7nm芯片之路，因為一旦這兩款也禁了后，就沒有了…
快科技9月7日消息，據國外媒體報道稱，荷蘭政府公布了新的出口管制規定，要求ASML（阿斯麥）就其部分機器向海牙（荷蘭南荷蘭省的省會）而非美國政府申請許可證，新規將于2024年9月7日生效。 ASML（阿斯麥）…
9月6日晚間，ASML相關負責人向記者進一步解釋稱，在去年10月美國政府頒發出口管制條例中，已要求向包括中國在內的部分國家出口特定型號的中高端DUV浸潤式光刻設備（NXT:1970及后續機型）的零部件、軟件和…
在8B02展位，富士膠片（中國）打造了一個拍攝現場，搭建了影視拍攝中常見的復古風格辦公室。在富士膠片集團"為世界綻放更多笑容"的集團使命之下，富士膠片（中國）將持續洞察中國廣播電影電視行業的趨勢，用適合行業…
那如何來制造，和利用DUV光刻機，制造7nm芯片一樣，采用多重曝光技術即可。 所以，大家就不要天天想著用用DUV光刻機，來制造5nm芯片了，就算制造的出來，也無法市場化，這是不現實的，還是想想另外的招吧，你…
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