按照光刻機(jī)的類型，生產(chǎn)65nm芯片的光刻機(jī)叫做干式DUV光刻機(jī)，也稱之為ArF光刻機(jī)。

生產(chǎn)45-7nm的光刻機(jī)，叫做浸潤式DUV光刻機(jī)，也稱之為ArFi光刻機(jī)。

這兩者光源一樣，都是采用193nm波長光源，工作臺一樣，物鏡系統(tǒng)也一樣，唯一不同之處是干式DUV光刻機(jī)，以空氣為介質(zhì)。而浸潤式光刻機(jī)，在晶圓前加了一層水為介質(zhì)，193nm波長的光線，進(jìn)入水后折射，等效于134nm波長光線。

因?yàn)楣饩€的波長小，分辨率就高了，所以浸潤式光刻機(jī)，可以用于最小7nm工藝的芯片，這是干式DUV辦不到的。

目前國內(nèi)的技術(shù)，還處于干式DUV光刻機(jī)的水平，具體表現(xiàn)如何，應(yīng)該不用我介紹了，前段時間，網(wǎng)上不是大談特談這款氟化氬光刻機(jī)么，分辨率小于等于65nm，套刻精度小于等于8nm。

其實(shí)它就是一臺干式DUV光刻機(jī)，所以能生產(chǎn)多少納米的芯片，我也不多說了，懂的都懂。

基于此，很多人表示，接下來我們的目標(biāo)是研發(fā)浸潤式DUV光刻機(jī)出來，畢竟路是一步一步走的，但我卻認(rèn)為，我們接下來的真正目標(biāo)，不是研發(fā)浸潤式DUV光刻機(jī)，而是跨過它，直接研發(fā)EUV光刻機(jī)。

估計很多人會罵我了，那就是走路都走不穩(wěn)，就想開始跑了。但實(shí)際上，還真不是這樣的，這個理論不用套在光刻機(jī)上。

EUV光刻機(jī)和浸潤式DUV光刻機(jī)，并沒有先后邏輯關(guān)系，也不是替進(jìn)式的，一代一代發(fā)展這么來說的。

DUV光刻機(jī)，和EUV光刻機(jī)，真正最大的不同之處是，一個是采用EUV光源，也就是波長是13.5nm的光線，一個是采用193nm波長的光線。

浸潤式是在晶圓前加了一層水來折射193nm波長的光線，EUV是直接采用13.5nm的光線。

其它的工作臺，物鏡系統(tǒng)等，其實(shí)原理等，都是差不太多的，只是分辨率更高了，精度也更高了，僅此而已。

并不是說沒研發(fā)出浸潤式DUV，就研發(fā)不出EUV的，完全可以直接跨進(jìn)EUV光刻機(jī)的，只要解決掉了EUV光線的產(chǎn)生、收集即可，這一塊是重點(diǎn)、難點(diǎn)。

因?yàn)锳SML將這一塊的上下游供應(yīng)鏈都整合了，中國想要研發(fā)出EUV，必須找到替代ASML供應(yīng)鏈的方案，這個非常難。

另外，目前國內(nèi)擁有的浸潤式DUV光刻機(jī)，其實(shí)是非常多的了，從2021年開始，根據(jù)ASML的財報數(shù)據(jù)，我們買到的浸潤式DUV光刻機(jī)，就超過了150臺。

150臺有多大的產(chǎn)能，其實(shí)是相當(dāng)于幾十個中芯國際的總產(chǎn)能了，所以浸潤式DUV光刻機(jī)是足夠用的，且目前ASML也沒有完全卡死，我們能夠買的。

在這樣的情況之下，研發(fā)EUV光刻機(jī)才是關(guān)鍵，研發(fā)不研發(fā)浸潤式DUV，相對而言其實(shí)并不那么重要了，你覺得呢？