眾所周知，光刻機(jī)和芯片工藝是一一對(duì)應(yīng)的。如下圖所示，這是光刻機(jī)類型，對(duì)應(yīng)的芯片工藝。

可以看到普通的DUV光刻機(jī)，也就是干式ArF光刻機(jī)，最多能制造65/55nm的芯片。

而浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)，也就是ArFi光刻機(jī)，最多能夠制造到7nm的芯片，甚至按照林本堅(jiān)的說(shuō)法，還可以向5nm芯片工藝推進(jìn)的。

至于5nm芯片之后，那就必須使用EUV這種極紫外線光刻機(jī)了，用DUV光刻機(jī)已經(jīng)制造不出來(lái)了，因?yàn)镈UV光刻機(jī)的光線波長(zhǎng)經(jīng)水折射也也畢竟有134nm，波長(zhǎng)太長(zhǎng)，分辨率不夠。

而國(guó)內(nèi)之前能夠買(mǎi)到所有的浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)，而EUV光刻機(jī)買(mǎi)不到，美國(guó)不允許ASML銷售給中國(guó)，因?yàn)槊绹?guó)怕中國(guó)研發(fā)出了7nm甚至更先進(jìn)的芯片工藝。

后來(lái)，美國(guó)又限制了ASML，不準(zhǔn)出售先進(jìn)的浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)，當(dāng)時(shí)只允許出售兩款較舊的浸潤(rùn)式光刻機(jī)，分別是TWINSCAN NXT：1970i和1980i深紫外光微影（DUV）系統(tǒng)。

因?yàn)楫?dāng)時(shí)只有較為先進(jìn)的浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)，才有可能進(jìn)入7nm工藝，相對(duì)較老的，像1970i和1980i，要進(jìn)入7nm相對(duì)較麻煩，良率較低，成本高。

而近日，有媒體報(bào)道稱，荷蘭政府再次更改了規(guī)則，這次連ASML之前能夠出口的1970i和1980i這兩款老一點(diǎn)的浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)，也限制住了。

荷蘭政府雖然沒(méi)有說(shuō)只是針對(duì)中國(guó)，但明眼人一看就能看出，就是針對(duì)中國(guó)的，因?yàn)橐坏〢SML出口這兩種機(jī)器，也需向荷蘭海牙政府申請(qǐng)出口許可證，新政于9月7日正式生效。

很多人分析稱，一是因?yàn)殡m然1970i和1980i要生產(chǎn)7nm芯片較難，但其實(shí)還是可以的，畢竟也有先例。二是看到中國(guó)芯進(jìn)步很快，明顯已經(jīng)超過(guò)了美國(guó)的預(yù)期，所以美國(guó)不敢再讓ASML出口1970i和1980i了，之前的芯片已經(jīng)是例子了。

美國(guó)的意圖很明顯，那就是徹底阻7nm芯片之路，因?yàn)橐坏┻@兩款也禁了后，就沒(méi)有了浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)了，沒(méi)有了浸潤(rùn)式光刻機(jī)，就不可能進(jìn)入7nm了吧，至于5nm，當(dāng)然就更加沒(méi)希望了。

再結(jié)合之前的不準(zhǔn)ASML維修光刻機(jī)，也就是說(shuō)新的不準(zhǔn)買(mǎi)，舊的壞了不準(zhǔn)修，讓其變成廢鐵，美國(guó)的想法還是很美好的，接下來(lái)就看我們?nèi)绾纹凭至恕?/p>