眾所周知,光刻機(jī)和芯片工藝是一一對(duì)應(yīng)的。如下圖所示,這是光刻機(jī)類型,對(duì)應(yīng)的芯片工藝。
可以看到普通的DUV光刻機(jī),也就是干式ArF光刻機(jī),最多能制造65/55nm的芯片。
而浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī),也就是ArFi光刻機(jī),最多能夠制造到7nm的芯片,甚至按照林本堅(jiān)的說(shuō)法,還可以向5nm芯片工藝推進(jìn)的。

至于5nm芯片之后,那就必須使用EUV這種極紫外線光刻機(jī)了,用DUV光刻機(jī)已經(jīng)制造不出來(lái)了,因?yàn)镈UV光刻機(jī)的光線波長(zhǎng)經(jīng)水折射也也畢竟有134nm,波長(zhǎng)太長(zhǎng),分辨率不夠。
而國(guó)內(nèi)之前能夠買(mǎi)到所有的浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī),而EUV光刻機(jī)買(mǎi)不到,美國(guó)不允許ASML銷售給中國(guó),因?yàn)槊绹?guó)怕中國(guó)研發(fā)出了7nm甚至更先進(jìn)的芯片工藝。

后來(lái),美國(guó)又限制了ASML,不準(zhǔn)出售先進(jìn)的浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī),當(dāng)時(shí)只允許出售兩款較舊的浸潤(rùn)式光刻機(jī),分別是TWINSCAN NXT:1970i和1980i深紫外光微影(DUV)系統(tǒng)。
因?yàn)楫?dāng)時(shí)只有較為先進(jìn)的浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī),才有可能進(jìn)入7nm工藝,相對(duì)較老的,像1970i和1980i,要進(jìn)入7nm相對(duì)較麻煩,良率較低,成本高。

而近日,有媒體報(bào)道稱,荷蘭政府再次更改了規(guī)則,這次連ASML之前能夠出口的1970i和1980i這兩款老一點(diǎn)的浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī),也限制住了。
荷蘭政府雖然沒(méi)有說(shuō)只是針對(duì)中國(guó),但明眼人一看就能看出,就是針對(duì)中國(guó)的,因?yàn)橐坏〢SML出口這兩種機(jī)器,也需向荷蘭海牙政府申請(qǐng)出口許可證,新政于9月7日正式生效。

很多人分析稱,一是因?yàn)殡m然1970i和1980i要生產(chǎn)7nm芯片較難,但其實(shí)還是可以的,畢竟也有先例。二是看到中國(guó)芯進(jìn)步很快,明顯已經(jīng)超過(guò)了美國(guó)的預(yù)期,所以美國(guó)不敢再讓ASML出口1970i和1980i了,之前的芯片已經(jīng)是例子了。
美國(guó)的意圖很明顯,那就是徹底阻7nm芯片之路,因?yàn)橐坏┻@兩款也禁了后,就沒(méi)有了浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)了,沒(méi)有了浸潤(rùn)式光刻機(jī),就不可能進(jìn)入7nm了吧,至于5nm,當(dāng)然就更加沒(méi)希望了。
再結(jié)合之前的不準(zhǔn)ASML維修光刻機(jī),也就是說(shuō)新的不準(zhǔn)買(mǎi),舊的壞了不準(zhǔn)修,讓其變成廢鐵,美國(guó)的想法還是很美好的,接下來(lái)就看我們?nèi)绾纹凭至恕?/p>





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