5 月 28 日消息，在荷蘭阿姆斯特丹當(dāng)?shù)貢r間昨日舉行的公司 2025 年技術(shù)論壇歐洲場活動中，臺積電負(fù)責(zé)業(yè)務(wù)開發(fā)及全球業(yè)務(wù)的資深副總經(jīng)理兼副聯(lián)席 COO 張曉強表示，目前暫無在先進制程中引入 High NA EUV 技術(shù)的必要。

他指出，臺積電最新公布的 1.4nm 級邏輯制程 A14，即便未采用 High NA EUV 圖案化設(shè)備，其性能提升依然顯著。張曉強強調(diào)，臺積電技術(shù)團隊正持續(xù)通過工藝優(yōu)化，在現(xiàn)有基礎(chǔ)上進一步拓展 Low NA EUV 技術(shù)可覆蓋的制程范圍。只要該路徑仍能持續(xù)推進，就沒有必要在量產(chǎn)中采用成本高昂的 ASML High NA EUV 設(shè)備。

同時，他也提到，在三大先進制程廠商中，對 High NA EUV 技術(shù)態(tài)度最為積極的國際同行，如今在實際生產(chǎn)中也表現(xiàn)出謹(jǐn)慎傾向。與臺積電 A14 制程相近的某 14A 工藝節(jié)點，也提供了是否使用 High NA EUV 的不同方案選擇。