上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(簡稱SMEE)近日中標(biāo)一項步進(jìn)掃描式光刻機采購項目。

該項目采購方為zycgr22011903，采購數(shù)量為一臺，成交金額約1.1億元。

中國政府采購網(wǎng)披露的公告顯示，中標(biāo)供應(yīng)商為SMEE，注冊地址位于上海市張江高科技園區(qū)張東路1525號。

本次中標(biāo)設(shè)備為步進(jìn)掃描式光刻機，型號為SSC800/10。

盡管未具體點名，但中國政府采購網(wǎng)11月的一份公告顯示，科學(xué)技術(shù)部申請zycgr22011903步進(jìn)掃描式光刻機采購項目采用單一來源方式采購，項目預(yù)算金額1.13億元。

當(dāng)時提及的潛在政府采購供應(yīng)商，正是SMEE。

受此消息影響，以園區(qū)開發(fā)為主業(yè)的A股上市公司張江高科(600895.SH)股價下午2點34分突然開始拉升，下午2點40分時最高漲到43.88元，6分鐘內(nèi)暴漲約7.76%。

截至今日A股收盤，張江高科報42.48元/股，錄得漲幅4.81%，總市值657.88億元。

據(jù)財聯(lián)社，今日午后光刻機概念異動拉升，國風(fēng)新材(000859.SZ)直線漲停，走出3天2板，華軟科技(002453.SZ)、華融化學(xué)(301256.SZ)、高盟新材(300200.SZ)等沖高。

天眼查顯示，張江高科通過子公司張江浩成持有10.7787%的SME股份。

公開資料顯示，國有控股的SMEE成立于2002年，專注于半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備和高端智能裝備研發(fā)制造，為國內(nèi)唯一能量產(chǎn)前道光刻機的企業(yè)。

官網(wǎng)信息顯示，SMEE主要光刻機產(chǎn)品有SSX600系列光刻機、SSB500系列步進(jìn)光刻機、SSB300系列步進(jìn)光刻機、SSB200小Mask系列曝光機、SSB200大Mask系列曝光機。

其中，最先進(jìn)的型號是SSA600/20，采用深紫外光源(DUV)，分辨率為90nm，可用于8寸線或12寸線的大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)。

今年5月，SMEE宣布成功交付首臺28nm浸沒式光刻機，可支持7nm及以上制程。

據(jù)稱其28nm光刻機樣機目前已被送至中芯國際、華虹半導(dǎo)體等頭部晶圓廠進(jìn)行工藝適配，預(yù)計在年內(nèi)實現(xiàn)量產(chǎn)。

從技術(shù)路徑看，自1961年首臺光刻機問世以來，作為半導(dǎo)體制造關(guān)鍵步驟，光刻技術(shù)歷經(jīng)接觸式、接近式到投影式發(fā)展。

因顯著提升掩模利用率和曝光精度，目前步進(jìn)掃描式光刻機為行業(yè)主流，占據(jù)光刻機市場份額的70%以上。

該類設(shè)備通過動態(tài)掃描方式，使掩模版相對晶圓同步進(jìn)行運動，在完成26mm×33mm曝光場的曝光后，再轉(zhuǎn)移至下一曝光場，直至整個晶圓片曝光完畢。

進(jìn)入2025年，光刻機國產(chǎn)化進(jìn)程明顯加快。

11月25日，拆分自SMEE的上海芯上微裝科技股份有限公司(AMIES)宣布，其自主研發(fā)的首臺350nm步進(jìn)光刻機AST6200完成出廠調(diào)試和驗收，并啟程發(fā)往客戶現(xiàn)場。

AST6200并非用于高端邏輯芯片，而是專為功率、射頻、光電子及Micro LED等場景量身定制的。

與此同時，國產(chǎn)廠商在技術(shù)展示和產(chǎn)品落地層面亦動作頻頻。

9月23日有消息稱，深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司已宣布，其研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度Stepper (步進(jìn)式)光刻機順利出廠。

9月24日，在上海國家會展中心舉行的第二十五屆中國國際工業(yè)博覽會上，SMEE展臺首次公開展示了極紫外(EUV)投影微場曝光裝置，并披露了部分相關(guān)技術(shù)內(nèi)容。

在多家企業(yè)持續(xù)推進(jìn)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化的背景下，國產(chǎn)光刻機正從成熟制程加速向更高技術(shù)層級邁進(jìn)。