快科技12月18日消息，雖然在EUV光刻機上已經出局，但日本依然是全球第二大光刻機供應商，這幾年日本公司也在憋足勁開發可替代EUV的光刻方案，他們選擇了NIL納米壓印技術路線。

此前日本佳能、尼康等公司有過這種技術展示，現在日本DNP公司（大日本印刷株式會社）也宣布開發出了10nm的NIL納米壓印技術，可以將電路圖直接印在基板上，該技術可以用于1.4nm工藝的邏輯芯片曝光。

具體技術上，DNP的10nm納米壓印技術采用SADP自對準雙重圖案技術，一次曝光+兩次圖案能夠制造成雙倍精度的芯片，可以滿足先進工藝邏輯芯片的要求，而且功耗優勢明顯，DNP公司稱其能耗只有當前主流工藝的1/10左右。

該公司已經研發NIL技術超過20年，目前的技術已經可以部分替代EUV光刻，為芯片制造商提供另一種高精度工藝生產的選擇，現在已經在跟硬件供應商合作啟動技術評估。

DNP公司預計在完成客戶驗證，建立量產和供應體系之后，預計2027年開始量產出貨。