（文/武守哲）4月17日，荷蘭光刻機巨頭ASML披露2024年一季報，實現凈銷售額53億歐元（約合人民幣408億元），同比下滑21%，環比下滑27%；凈利潤為12億歐元，同比降40%，環比下滑幅度也高達40%；毛利率為51.0%，同比提升0.4個百分點，環比下滑0.4個百分點。

在公開發布的財務數據和簡報之外，長達一小時的財報電話會議豐富了一連串數字背后的更多訊息。

這一季度，ASML發貨了12個EUV光刻系統，并從11個設備中記錄了18億歐元的收入。

ASML本季度末的自由現金流為負，這主要是由于與上季度相比首付客戶減少和庫存增加所致。

庫存問題主要是價值含量高的先進光刻設備的蓄勢待放量。

本季度，ASML凈光刻系統預訂量由59%的內存商和41%的邏輯代工廠所推動，由此可以看到，AI大算力芯片對存儲類公司推動著設備需求的景氣度很旺。

值得一提的是，4月24日ASML股東大會將是目前公司CEO Peter Wennink最后一個工作日，他向大家提前道別。在過去的十年里，Peter Wennink以CEO的身份陪伴ASML走過了40多個財季，并且在過去的25年里為公司服役超過100個財季，見證了ASML的業務的持續攀升和各種高光。在電話會議上，ASML同事和連線接入的分析師紛紛對Peter Wennink表示敬意和感謝。

駁斥中國成熟制程產能過剩論

財報顯示，本財季ASML來自中國大陸凈系統銷售營收為19億歐元，而上季度為22億歐元。該季度ASML來自中國大陸的凈系統銷售營收占比高達49%。

對此，公司首席財務官Roger Dassen闡述：“這個數字環比有所下降，但仍然在絕對值和相對值上保持了很強勁的勢頭。一般來說每年Q1的設備銷量和出貨量相對較低，這并不奇怪。”針對 TD Cowen分析師Krish Sankar所提問的中國大陸銷量是否占比過高的問題，Roger Dassen認為，銷量和訂單量是兩個不同的觀察維度，一個是顯性的，一個是隱性的，公司不會披露訂單量的地理分布，但從新增、庫存訂單量等角度看，要比ASML的光刻設備銷量要更分散的多。他還透露，目前ASML訂單的積壓量，中國大陸的占比約為20%。

此外，Krish Sankar還問到了美國出口管制對中國市場的影響度這一問題，ASML去年給出的回答是10%到15%之間，那么這個財務指引目前有沒有變化？Roger Dassen對此表示，10%-15%這一判斷沒有改變，美國新規主要還是影響浸潤式光刻設備的在華銷售。

Berenberg的Tammy Qiu問到了目前設備市場的一個熱點話題，目前美國聯合盟友國家對中國所謂的成熟制程“產能過剩”問題進行審查，這會對ASML的在華業務造成什么影響？

Roger Dassen有力的駁斥了中國“成熟制程產能過剩論”。他指出，全球各國的產能都在提升，正如我們在2022年投資者日所分享的，從2022年到2030年間，每年都會新增38萬片左右的成熟制程晶圓的需求量，如果將2023年全球生產的成熟制程晶圓數量相加，結果其實是低于這個數字的，何來中國產能過剩之說？他還強調：“在未來，與其他國家相比，中國的自給自足能力將會比現在更高，這與對成熟技術的需求持續強勁有關。中國今天新增的成熟產能是理性且符合預期的，即增加哪些成熟工藝產能才能滿足世界需求的預期。”

近幾個月以來，業界傳出美國施壓ASML中止對華光刻設備維護服務，給設備產業鏈的健康度蒙上了一層陰影。針對Goldman Sachs分析師Alexander Duval的這一問詢，公司CEO Wennink做了專門回答，他指出：“兩國政府之間已經進行了討論......各國政府圍繞這一問題的討論方向是國家安全問題。目前ASML在華已裝機的設備的維護服務上未受阻礙。”

ASML的過渡年

ASML這份財報看上去數據好像并不太樂觀，但并沒有引發半導體行業的過度擔憂，資本市場也相對反應平淡。其中一個重要原因是，從去年下半年開始，ASML高層就把2024年定調為過渡年，為“2025年玩大的”做蓄勢準備。

過去六個月，ASML的銷售額為130億歐元，即每季度平均65億歐元，依然亮眼。分析機構RadioFreeMobile總裁Richard Windsor在郵件采訪中也提到，2025年將會是ASML的大年，這主要是由于先進代工廠已經做出了巨額承諾，如英特爾、三星、臺積電和美光等將會下單利潤率更高的EUV設備。

向上邁進，高NA設備的持續放量

在財報電話會議上，公司CFO還提到了高孔徑EUV的財務貢獻度。他指出，ASML計劃在2024年EUV 0.33 NA光刻設備上的發貨量和2023年保持持平，并且在交付了第一臺NXE:3800E，以供客戶鑒定審核和導入。NXE:3800E生產率達到每小時曝光220片晶圓，可以比最終配置的NXE:3600D提高37%（如下圖）。

今年2月份，英特爾技術開發總經理Ann Kelleher在加利福尼亞州圣何塞舉行的SPIE光刻會議上，表示ASML已向英特爾交付的最先進High NA EUV光刻機Twinscan EXE:5000的主要部件已經啟動，該設備將提供0.55數值孔徑的投影光學器件，單次曝光分辨率可低至8nm，比單次曝光13.5nm分辨率的典型Low-NA EUV的分辨率更高。目前第一套High-NA EUV系統安裝在在ASML荷蘭Veldhoven實驗室，第二套系統則正在英特爾的俄勒岡州晶圓廠組裝。

可以說，0.55數值孔徑光刻設備讓ASML和英特爾綁定在一起，后者將成為全新一代光刻設備的最大客戶。