IT之家 12 月 15 日消息，ASML 首席執行官 Christophe Fouquet（克里斯托夫?富凱 / 傅恪禮）在公司總部接受彭博社專訪時稱，他預計 High NA EUV 光刻機將于 2027~2028 年正式投入先進制程的大規模量產作業中。

目前在導入新一代圖案化技術上最積極的是英特爾代工，其支持 High NA EUV 的 Intel 14A 節點將在 2027 年正式推出。

Fouquet 表示，High NA EUV 光刻機目前正由英特爾等客戶測試，結果顯示新設備的成像和分辨率表現良好，該企業 2026 年的任務之一是與客戶合作將設備的停機時間最小化。

Fouquet 還提到，ASML 對未來 10~15 年的大致技術路線已有一定的概念。該企業已啟動下一代 Hyper NA EUV 的研究，為本世紀 30 年代的投運打下基礎。