9 月 9 日消息，據臺媒《經濟日報》今天下午援引業界消息稱，臺積電首臺 ASML High NA EUV 光刻系統設備本月將進機，這將使其“持續領先”三星晶圓代工的交機進度。

這臺設備的價值超過 4 億歐元（備注：當前約 31.48 億元人民幣），其高度超過一間會議室、長度遠超前一代設備，規格特殊且精密，因此當地與機場或港口相連的高速公路預計需要進行交通管制，或安排在特定的深夜時段運送入廠，以避免交通不順。

對于業界傳聞，ASML 今天回應稱“不評論單一客戶”，臺積電傍晚也提到不回應市場傳聞。不過業界盛傳，臺積電首臺 High NA EUV 本月將進機，預計移入臺積電全球研發中心用于研發，進而應對后續先進制程開發需求。

據此前報道，今年 8 月曾有韓媒消息稱，三星將于 2024 年第 4 季度至 2025 年第 1 季度期間，安裝首臺來自 ASML 的 High-NA EUV 光刻機，并預估 2025 年年中投入使用。