快科技12月7日消息，前不久日本斷供光刻膠的消息引發關注，雖然日本方面否認了傳聞，但在光刻膠領域，日本公司確實卡了大部分半導體公司的脖子。

尤其是在先進的EUV光刻膠領域，目前主要掌握在日本JSR、信越化學、東京應化TOK等公司手中，前幾年日本與韓國爆發爭端之后，日本就停止過對韓出口光刻膠等三種關鍵材料。

這幾年中韓國也一直在加大對半導體核心技術與材料的國產化，之前有說法稱韓國已經解決了EUV光刻膠，實際上并不是，所謂的解決只是日本公司為了繞過政策限制，對韓出口從本土改為海外公司供貨而已，韓國三星、SK海力士等公司依然依賴日本公司EUV光刻膠供應。

相比三星，SK海力士主要是生產存儲芯片，此前對EUV光刻膠需求不算高，但是隨著工藝的提升，內存芯片也要大量使用EUV光刻工藝，為此他們也聯合韓國的東進世美肯公司合作開發EUV光刻膠。

雙方合作的產品目標不僅是取代日本公司的EUV光刻膠，而且還要在性能上超越日本產品，特別是光敏性，以便提高生產效率。

光刻膠的光敏性越強，所需的曝光時間就會越短，因此生產效率會更高，即便是同樣的EUV光刻機，先進EUV光刻膠生產能力也是不同的。

隨著內存芯片不斷逼近10nm甚至在10nm以下，所需的EUV光刻層數也在不斷增加，第七代1d工藝已經需要7層EUV了，未來只會繼續增加。

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