在目前的芯片產(chǎn)業(yè)鏈里，ASML的光刻機(jī)，應(yīng)該是最強(qiáng)有力的紐帶了。

因?yàn)槿魏涡酒に嚨倪M(jìn)步，都離不開光刻機(jī)，且全球只有ASML這么一家能夠制造EUV光刻機(jī)的廠商，所以說(shuō)ASML就是全球芯片產(chǎn)業(yè)的“皇上皇”。

而美國(guó)也是靠控制ASML的光刻機(jī)，來(lái)達(dá)到控制全球產(chǎn)業(yè)鏈的目標(biāo)。

不過(guò)，隨著芯片工藝不斷前進(jìn)，離物理極限是越來(lái)越近了，要推進(jìn)也是越來(lái)越難了。

我們知道目前的芯片，主要還是硅基芯片，而硅原子則是最基本的單元，而硅原子的直徑非常小，約為0.117納米，意味著芯片工藝，其實(shí)是不可能無(wú)限提升的，總要考慮硅原子的直徑吧。

實(shí)際上，在芯片工藝進(jìn)入14nm之后，芯片工藝的大小已經(jīng)不與柵極寬度等掛鉤了，提的是等效工藝。

同時(shí)芯片產(chǎn)業(yè)的摩爾定律，實(shí)際上在10nm之后，也開始失效了，不再按照每2年晶體管密度提升1倍，性能提升一倍，價(jià)格降50%來(lái)發(fā)展了。

摩爾定律失效，帶來(lái)的后果就是，光刻機(jī)等是越來(lái)越不好賣了，因?yàn)榫A廠們，沒(méi)有太多必要買了，反正舊的光刻機(jī)能用，那買新的干嘛，現(xiàn)在的新EUV光刻機(jī)，可是越來(lái)越貴，從原來(lái)的1億多美元，變成3億多美元了。

在這樣的情況之下，ASML肯定要想方設(shè)法，來(lái)為摩爾定律續(xù)命，然后再推出與之配大的新EUV光刻機(jī)，來(lái)忽悠各大晶圓廠們購(gòu)買。

這不，近日，ASML將未來(lái)15年的芯片工藝發(fā)展路徑，都推導(dǎo)出來(lái)了，ASML認(rèn)為，摩爾定律沒(méi)有死，還在持續(xù)推進(jìn)，從3nm進(jìn)入2nm，再進(jìn)入1.4nm、1nm，到2039年時(shí)，也就是15年后，會(huì)達(dá)到0.2nm工藝。

而ASML的EUV光刻機(jī)，則是有0.33NA、0.55NA、0.75NA等規(guī)格的，未來(lái)還會(huì)有更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)出現(xiàn)，來(lái)幫助晶圓廠們，提高芯片工藝。

可問(wèn)題是，接下來(lái)大家真的需要0.5nm、0.3nm、0.2nm的芯片么？到時(shí)候芯片的成本，會(huì)高上天，什么樣的產(chǎn)品，才會(huì)需要這么先進(jìn)的芯片？只怕是需要打一個(gè)問(wèn)號(hào)的。

更何況現(xiàn)在芯片已經(jīng)向眾多的方向發(fā)展，比如光電芯片，碳基芯片等等，硅基芯片真的能一直往前走么？所以ASML描繪的理想未來(lái)，未必真的會(huì)實(shí)現(xiàn)。