11 月 15 日消息，《日本經(jīng)濟(jì)新聞》當(dāng)?shù)貢r間今日凌晨報道稱，日本先進(jìn)半導(dǎo)體代工企業(yè) Rapidus 購入的第一臺 ASML EUV 光刻機(jī)將于 2024 年 12 月中旬抵達(dá)北海道新千歲機(jī)場，這也將成為日本全國首臺 EUV 光刻設(shè)備。

根據(jù) Rapidus 高管以往表態(tài)，該光刻機(jī)是較早期的 0.33 NA 型號，而非目前全球總量不足 10 臺的 0.55 NA（High NA）款。

據(jù)悉本次整個空運任務(wù)將分多架次完成，新千歲機(jī)場還為這臺對精度要求極高、不耐振動的“龐然大物”對機(jī)場顛簸不平的路面進(jìn)行了重新鋪設(shè)；此外 ASML 已在千歲市建設(shè)了客戶服務(wù)中心，將支持該系統(tǒng)的接收。

▲ ASML 的 0.33 NA EUV 光刻機(jī) NXE:3800E

按 Rapidus 此前的規(guī)劃，該公司定于 2025 年 4 月啟動先進(jìn)制程原型線，該產(chǎn)線將擁有包括 EUV 光刻機(jī)在內(nèi)的共計 200 余臺設(shè)備。根據(jù)千歲市當(dāng)?shù)卣恼f法，Rapidus 的 IIM-1 晶圓廠截至上月底已完成 63% 的施工進(jìn)度。

▲ IIM-1 晶圓廠概念圖

除 Rapidus 外，日本未來還有至少兩家晶圓廠將先后導(dǎo)入先進(jìn)的 EUV 光刻機(jī)：

美光 1-gamma（注：即 1c nm）制程 DRAM 內(nèi)存需使用 EUV，美光廣島工廠預(yù)計于 2025 年內(nèi)導(dǎo)入 EUV 光刻設(shè)備為 2026 年的量產(chǎn)做準(zhǔn)備；臺積電控股子公司 JASM 預(yù)定 2027 年投產(chǎn)的第二晶圓廠包含 6nm 產(chǎn)線，也需要 EUV 機(jī)臺。