IT之家 12 月 13 日消息，尼康本月 11 日宣布該企業正在加速推進新一代半導體工藝設備銳布 Litho Booster 1000 對準站的開發工作，計劃于 2026 年下半年正式上市。

銳布 Litho Booster 1000 能夠在曝光工藝前對晶圓進行高精度測量，并將補正值前饋給光刻機，從而大幅提升套刻精度。其相較上代對準站實現了更高精度的多點及絕對值測量。

先進制程半導體的 3D 立體化是大勢所趨。在利用多臺光刻機進行多層結構曝光的制造工藝中，尤其是在晶圓對晶圓 (WoW) 鍵合環節，晶圓極易發生形變或位移現象。而可兼容不同廠商光刻機的 Litho Booster 1000 能進一步提升這一過程的良率。