8 月 14 日消息，東京電子 TEL 當地時間 7 月 8 日宣布推出 Acrevia GCB（注：氣體團簇光束，Gas Cluster Beam）系統，該系統可對 EUV 光刻圖案進行臨界尺寸和形狀的精確調整。

東京電子此次發布 Acrevia 系統旨在同另一家半導體設備巨頭應用材料競爭 EUV 圖案塑形領域的訂單：應用材料于當地時間 2023 年 2 月 28 日推出了功能類似的 Centura Sculpta 系統。

東京電子的 Acrevia 系統利用定向氣體團簇光束在最佳晶圓傾斜角度進行蝕刻，對 EUV 光刻圖案進行微調，也可降低圖案的線邊緣粗糙度，能以盡可能小的損傷減少光刻過程產生的缺陷進而提高產量。

對于 EUV 光刻技術而言，實現更細微的電路結構的一種可能路線是多次曝光（多重圖案化），然而這意味著光刻成本的飆升。而東京電子與應用材料推出的圖案塑形設備不僅能修正錯誤，還能減少 EUV 光刻的使用。

據韓媒 etnews 報道，應用材料已累計收獲 2 億美元（備注：當前約 14.31 億元人民幣）的 Centura Sculpta 系統訂單，臺積電和英特爾已引入該系統，三星電子也在對該系統在 4nm 工藝中的應用進行評估。

東京電子方面人士表示：“我們正在與邏輯和半導體合同制造（代工）客戶一起評估 Acrevia 設備的性能”。韓媒認為這是 Acrevia 系統即將開始供應的暗示。