臺(tái)積電已獲得所有相關(guān)批文，即將在臺(tái)中市建設(shè)一座全新的先進(jìn)工藝工廠，專門用于生產(chǎn)14A 1.4nm工藝芯片。這一項(xiàng)目總投資額預(yù)計(jì)高達(dá)490億美元，創(chuàng)下臺(tái)積電歷史新高，包括核心晶圓廠、供水供電設(shè)施及相關(guān)輔助建筑的建設(shè)。

據(jù)悉，臺(tái)積電14A工藝于今年4月正式官宣，從命名到技術(shù)架構(gòu)均對標(biāo)Intel 14A工藝。作為繼N2 2nm之后的又一重要技術(shù)節(jié)點(diǎn)，14A工藝實(shí)現(xiàn)了全面升級(jí)：在同等功耗下性能可提升10-15%，同等性能下功耗可降低25-30%，邏輯晶體管密度提升最多約23%，芯片密度提升最多約20%。

業(yè)內(nèi)消息稱，臺(tái)積電14A晶圓的報(bào)價(jià)將高達(dá)4.5萬美元左右，相比N2工藝的3萬美元漲幅達(dá)50%，盡管價(jià)格高昂但仍將供不應(yīng)求。此外，臺(tái)積電已于今年9月通知客戶，5nm以下工藝（包括5nm、4nm、3nm、2nm）將從2026年1月起連續(xù)四年漲價(jià)，平均每年漲幅為3-5%。

按照計(jì)劃，臺(tái)積電將在2028年上半年實(shí)現(xiàn)14A工藝的量產(chǎn)。（Suky）